Attrezzatura criogenica Co., srl di liquefazione di Hangzhou Hangyang

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Casa ProdottiPianta dell'ossigeno liquido

Pianta criogenica dell'ossigeno che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto

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Pianta criogenica dell'ossigeno che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto

Porcellana Pianta criogenica dell'ossigeno che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto fornitore
Pianta criogenica dell'ossigeno che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto fornitore Pianta criogenica dell'ossigeno che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto fornitore Pianta criogenica dell'ossigeno che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto fornitore

Grande immagine :  Pianta criogenica dell'ossigeno che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto

Dettagli:

Luogo di origine: La Cina
Marca: HANGYANG
Certificazione: CE/ASEM/GB
Numero di modello: KDON

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 1 set
Prezzo: negotiation
Imballaggi particolari: caso di legno, imballaggio nudo, contenitore
Tempi di consegna: secondo il requisito reale
Capacità di alimentazione: secondo il requisito reale
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Descrizione di prodotto dettagliata
Applicazione: Vetro, giacimento di gas e di petrolio, macchinario & costruzione, metallurgia Uscita (Nm3/h): 0~500
Purezza: ≥99.6%O2/2ppm (O2) Pressione (MpaG): 0.1/0.16
Termine di consegna: Shanghai FOB CATENA DELL'OROLOGIO Shanghai di termine di consegna: Shanghai FOB

 

Pianta Nm3/h KDON-500Y/500Y dell'ossigeno liquido che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto

 

Specifiche:

 

   Prodotto standard per la serie della pianta KDON-50~500 dell'ossigeno liquido

 

MODELLO

CONTENUTI  

KDON-65Y/500/150Y

KDON-100/500Y/400Y

KDON-320Y/100Y

KDON-200/100

KDON-400Y/65Y

GAN/LIN scorrono

Nm3/h

  500/150

400 (Y)

100 (Y)

100/60

65 (Y)

Purezza di GAN/LIN

PPM

≤5ppmO2

≤5ppmO2

≤1ppmO2

≤10ppmO2

≤1ppmO2

GOX/LOX scorrono

Nm3/h

65 (Y)

100/500

320 (Y)

200/230

400 (Y)

GOX/LOX

purezza

PPM

99,6% O2

99,6% O2

99,5% O2

99,6% O2

99,5%

 Pressione di GAN/LIN

MPa

  0,0007

  0,16

    0,2

   0.018/0.16

0,2

GOX/LOX

pressione

MPa

0,16

0.025/0.16

0,15

0.025/0.12

0,15

LAr

flusso

Nm3/h

 

17

 

 

 

LAr

purezza

PPM

 

99,999%

 

 

 

LAr

pressione

MPa

 

0,16

 

 

 

 

 

 

Prodotto tipico: Pianta dell'ossigeno di KDON-500Y/500YLiquid

 

Uscita, purezza e pressione

 

Prodotto

Flusso (Nm3/h)

Purezza

MPa di pressione (G)

GAN/LIN

500 (Y)

2ppmO2

0,2

GOX/LOX

500 (Y)

≥99.6%O2

0,9

 

 

Descrizione:

 

      Ciò è un processo completo di pressione bassa in cui l'aria è purificata dal ms con il refrigeratore di bassa temperatura e l'espansione d'amplificazione della turbina. Un insieme del refrigeratore di bassa temperatura e due estensori si aggiungono per assicurare la capacità fredda al prodotto liquido.

      L'aria dopo che purificato è divisa in 3 parti, l'aria raffreddata dal refrigeratore con la temperatura di -30℃ sfocia in ancora lo scambiatore di calore principale ed è divisa in 2 parti: una parte sfocia nell'estensore 1 da espandere e poi sfocia nell' piatto-aletta da riscaldare e poi scorre l'entrata del compressore d'aria; l'altra parte continuamente è raffreddata e strozzata nell'piatto-aletta e poi scorre la colonna più bassa.

      Con la rettifica preliminare nella colonna più bassa, l'aria liquida e LIN sono ottenuti esclusivamente dal fondo e dalla cima della colonna più bassa. La tana, LIN residuo e LIN dalla colonna più bassa subcooled nel subcooler E2 di Lair/LIN e poi è alimentata alla colonna superiore da rettificare più ulteriormente. Poi il SALMONE AFFUMICATO con la purezza di 99,6% è ottenuto in basso della colonna superiore. L'uscita richiesta di SALMONE AFFUMICATO è ritirata dalla scatola fredda al sistema di memorizzazione del SALMONE AFFUMICATO del cliente.

LIN con la purezza di 2ppmO2 ritirato dal fondo della colonna più bassa subcooled nel subcooler di Lair/LIN, quindi l'uscita richiesta di elevata purezza LIN è ritirata dalla scatola fredda al sistema di memorizzazione di LIN del cliente.

 

Pianta criogenica dell'ossigeno che protegge il liquido di refrigerazione e di raffreddamento del gas dell'azoto

 

 

 

Applicazioni:

  1. Agricoltura
  2. Protezione del gas
  3. Gas elettronico
  4. Refrigerazione e raffreddarsi
  5. Produzione del metallo
  6. Saldatura ed elaborazione del metallo

 

 

Vantaggio competitivo:

  1. Controllo maturo di ingegneria di progetto
  2. Livello tecnico principale, gruppo tecnico perfetto di sviluppo.
  3. Costo di mantenimento basso
  4. Basso consumo energetico
  5. Nessuna perdita, alti ritorni
  6. Tutte le piante del liquido e del gas sono ottimizzate per soddisfare le richieste cliente-specifiche del sito

 

 

 

Dettagli di contatto
Hangzhou Hangyang Cryogenic Liquefaction Equipment Co., Ltd

Persona di contatto: Ms. Lou Yizhen

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